□ 장비 설명

1. 시스템은 재료분야 고유의 application에 적합하게 디자인된 300kV FEG 전계 방출 투과 전자 현미경이어야 합니다.
2. 시스템은 재료분야에서 요구하는 시료의 분해능을 보장하는 대물렌즈 및 기타 렌즈시스템이 구성되어 있어야 합니다.
3. 시스템에는 EDS분석이 가능한 홀더를 사용할 수 있어야 하며, 홀더는 EDS분석시 백그라운드 노이즈를 최소화하는 재질인 Be(베릴륨)로 제작된 곳에 시료를 위치시킬 수 있어야 합니다.
4. 시스템은 대물렌즈조리개를 포함하여 최소 네 개의 조리개가 설치되어 있어야 합니 다.
5. 시스템에는 4백만화소의 CMOS 카메라가 장착되어 있으며 독립된 software를 이용하 여 단독으로 사용이 가능하며 TEM system software를 이용하여 사용이 가능해야 합 니다.
6. 시스템은 CMOS camera를 이용하여 미세 전자회절에 의한 실험이 가능해야 합니다.
7. 주사전자를 이용하여 시료의 화학적 성분분석이 가능한 구성품을 시스템이 갖추어 야 하며 이에 해당하는 이미지를 얻기 위한 검출기가 갖춰져야 합니다.
8. 시스템은 EDS 성분 분석기를 포함하여야 합니다

□ 구성 및 성능 

제우스 공동활용 서비스 링크 참조

☞ 클릭시 제우스 공동활용서비스 링크로 이동합니다.